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寺門 拓也*; 柴沼 清; 栗山 正明; 秋野 昇; 田中 茂; 大楽 正幸
真空, 35(3), p.331 - 334, 1992/00
JT-60粒子入射加熱装置(NBI)における既存のH排気用クライオポンプを、He排気用のクライオソープションポンプとして使用するために、吸着媒としてN、Ar、SFを用いた場合のHe排気特性について、排気面積0.2mを有する小型クライオポンプにより測定し比較を行った。He排気実験は、ビーム入射タイムシーケンスに従い、1サイクルあたり400秒に最長10秒の割合でHeを導入し、これを20サイクル行った。実験結果は、吸着媒にNを用いた場合、排気速度は初期段階から急激に低下した。Arの場合、初期段階の排気速度は、Nの場合と同様に急激に低下する傾向を示したが、10サイクル以後の排気速度として、5~6m/Sを得た。SFの場合、20サイクルのHe導入に対し、排気速度にほとんど変化がなく、安定にHeを排気した。
柴沼 清
真空, 34(8), p.645 - 652, 1991/00
任意3次元構造内の圧力分布を計算するためのモンテカルロ法を用いた解析手法を提案した。本手法は以下の2つの特徴をもつ。1)複雑形状の3次元構造物から構成された解析モデルは集合理論と座標変換により容易に構築できる。2)3次元構造物から成る解析モデル内の圧力は、粒子の軌道に影響を与えない仮想面を通過する粒子数を累積することにより計算できる。このモンテカルロ法による解析手法をJT-60NBI真空容器内の圧力分布の計算に適用し、実験結果と比較した結果、解析結果は実験結果と比較的良い一致を示した。これにより、本解析手法は任意3次元形状内の圧力分布を計算する手法として非常に有効であることが確認された。
小島 啓明; 花田 磨砂也; 井上 多加志; 松田 恭博*; 小原 祥裕; 奥村 義和; 大原 比呂志; 関 昌弘; 渡邊 和弘
Proc. of the 13th Symp. on Ion Sources and Ion-Assisted Technology,Vol. 1, 4 Pages, 1990/06
負イオンビームを用いた粒子入射加熱装置の実現に向け、体積生成型負イオン源の大電流化を目指している。現在までに、マルチアンペア負イオン源にセシウムを添加することで負イオン電流が増大することが確認され、10A、50keV、0.1sのHイオンビームが得られている。この負イオン源は、断面が24cm48cm、深さ15cmの多極磁場型プラズマ源と、15cm40cmの領域に直径9mmの孔が434個開けられた加速部より構成される。セシウムは、100mg程度導入すると一週間程度効果が持続し、負イオン生成効率が4倍以上になる他、最適動作ガス圧力を下げることができる。負イオンビーム中の不純物量の評価を行なった結果、OH、Oが1%以下と、セシウムを用いない場合と変わらないことが分かった。また、金属不純物も検出されなかった。